第 2026-09-09 期 · 行业追踪 · 芯片 · 政策
ASML与台积、电、三星合作放大光罩,华为推动国产替代
ASML已说服台积电、三星和英特尔改用更大光罩,新一代EUV设备吞吐量预计提升约40%。同时,华为通过设备商Yuliangsheng及其供应商推动国产化对策,试图打破对荷兰光刻技术的依赖。
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